第253章 最大的难点

不过分辨纳米光刻机虽好，却也存在一个较为严重的缺陷。

那就是曝光时间过长。

尤其实在芯片领域，euv光刻机曝光15秒便能完成的任务，分辨光刻机需要十多天。

更加形象的比喻是，传统光刻机是直接拍出一张照片，分辨光刻则是拿一支笔，慢慢画出一张图片……效率差别巨大。

……

商海微电子公司。

来到这家公司调研的陈今，看到面前的这台22纳米分辨光刻机，听了该公司的老总张昱明的介绍后。

“你说这么好的设备，不能用于芯片的制造，为什么不能？”

陈今皱着眉头，这太可惜了吧。

“不是不能，而是太慢！我们想了各种办法提高它的曝光效率，但曝光一张影刻，依然需要五天的时间，效率是传统光刻几万分之一，这完全抵消了我们的成本优势，只适合给一些较小规模的市场，比如军用芯片、光学器件、高精密光栅、光子晶体阵列等等，这些领域我们的分辨光刻机卖了好几十台。”

“但大规模的芯片制造，只能老老实实地展传统光刻。”

张昱明摇着头道。