第253章 最大的难点

所以光源、双工件台、光刻机镜头这三大用于制造光刻机的核心设备，z国全部掌握。

这也正是asml公司对z国放开光刻机销售的原因……严厉的封锁，光刻机领域，只会导致z国以更快的度取得突破。

兔子被逼急了，会要你的命。

而z国的光刻机至今没有赶上国外最先进水平，一方面是市场份额被人牢牢把控；其次走相同的技术路线，会不可避免地会侵犯到asml的知识产权，引专利官司。

再加上一些关键设备的禁售。

国产的光刻机展始终不温不火。

即便如此，为了绕开国外的专利壁垒，z科院光电所另辟蹊径，研制了一款全新的光刻机——

分辨纳米光刻机。

这种光刻机采用了与传统光刻设备完全不同的技术路线，用365纳米近紫外光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造1o~9纳米级别的芯片。

而这款光刻设备，使用的是波长更长、更普通的紫外光，在普通环境下便能完成光刻，意味着国产光刻机使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。

制造成本只有asml公司光刻机的几分之一，乃至十几分之一。

技术原理层面的突破，更是相当于别人在开山修路的时候，你打通了一条隧道。