第九十五章 狂热

不过还有一个极限，不是不能突破。

“既然我们的光源系统稳定性这么高，索性，我们不做复杂麻烦的‘纠偏系统’算了，再往里面加入一组光源，构成‘双光源系统’，光刻机正常使用的情况下，只让一组光源进行工作，每次工作半个小时，另一组光源进入休息调整状态，半小时后接替工作，轮流换班，减少累积误差。”

“此外这台机器还有一个‘狂暴模式’，那就是让两套光源系统，同时投入工作，每秒10万粒的锡滴，20万次的击打，产生超过1250瓦强度的极紫外光，这个光强是艾思迈光刻机250瓦的5倍之高，比普通DUV光刻能量也强悍的多。”

“狂暴模式下，这台光刻机每小时至少能处理600片以上的晶圆，艾思迈只能处理125片，我们的效率能高四五倍！”

“而且能量越高，光刻出的清晰度、锐利度也越高，这能明显提高芯片的质量和良率，减少多重曝光的次数，更容易实现3纳米芯片的制造，帮助我们从开始的7纳米，越过中间的5纳米，快速过渡到最新的3纳米，实现跳跃式的发展！”

蒲伟才的技术团队中，一位名叫罗聪的研究员，提出了一个叫“狂暴模式”的构想。

他这个构想的天才之处，一方面彻底砍掉了“纠偏系统”这个大麻烦。

另一个，“狂暴模式”的种种优势之处，又令人呼吸加重，眼里射出精光。

当然，“狂暴模式”也有缺陷，那就是对散热系统提出了更高的要求，五倍的能量强度，意味着要散去五倍以上的热量。

蒲伟才简单计算一番就得出结果：为防止系统过热，狂暴模式最多只能持续3~5分钟，除非每分钟用掉1万升以上的冷却水，才可能延长些许时间。

但就算如此，这个模式依然有巨大的实用价值。

所以包括蒲伟才在内，都支持加入这个模式，再增强系统散热能力，让“狂暴模式”至少能持续10分钟左右。

于是又接下来的半个月。

工厂内的大多数工程师，都围绕着“双光源系统”、“狂暴模式”、“加强散热”而忙碌着。

为了加快进度，所有人都主动提出了加班的请求，要求延长工作时间，哪怕没有加班费。

更有不少人买了睡袋，累了就休息几个小时，连续数天才洗一个大澡。