第三百一十二章 40nm工艺的突破

我们算是比较幸运的了，能够赶在尼康和佳能在做出157nm光源前顺利完成浸润式光刻机的研发。”

新芯选择的是后世ASML的技术路线，也就是浸润式光刻机，而尼康、佳能包括ASML在当下，都选择的是研究波长更短的光源。

后世在ASML推出浸润式光刻机，成功把芯片制程推进到40nm之后不久，尼康就顺利研发出来了基于157nm光源的干式光刻机。

可惜太晚了，那个时候ASML已经占据了40nm光刻机的主流市场，尼康一步慢步步慢，丧失了整个光刻机市场。

现在是最好的时间，光源还没有实现突破，新芯已经率先实现突破，直接绕过了65nm进入到40nm制程。

胡正明说：“我们速度需要快，尽可能快的推向市场。

同时我们要把新芯的光刻机推销出去，之前新芯虽然做光刻机，但是在全球市场上并没有我们的名号。

只有华国的芯片制造厂商们会选择我们的产品，霓虹、高丽、阿美利肯这些地方的芯片生产厂商们出于尝试会买个一台去看看效果。

他们在买过一台之后不会考虑第二台。

因为和已经使用顺手的尼康相比，新芯并没有独特优势。

和ASML背后是英特尔、台积电这些股东相比，新芯光刻机能够依仗的只有新芯自身。”

这是事实，ASML为什么能迅速扩张，在推出40nm光刻机之后，英特尔看都不再看尼康一眼，还不是因为英特尔有ASML的大量股份。

周新点头表示赞同：“我们需要抓住这个时间差。

这个难得的时间差。”

林本坚提到：“我想的是分两步走，一边是新芯可以开始做工艺验证，另外一边我想参加霓虹马上要举办的半导体展。”

霓虹每年会在12月举办半导体展，这也是整个亚太地区最盛大的展会，具体地点在霓虹东京的有明会展中心。

它也是全球最具影响力的半导体工业设备展览会。

在座的各位表示赞同：“我认为可以。”

“新芯半导体也发展这么多年了，之前我们去参加霓虹的半导体展一直没有拿得出手的产品。