第一百五十五章光源与波澜

顾青自然是理解的。

毕竟半导体这个产业，每一个项目都有专利墙保护，而光源就是命脉一般的存在，所以这群半导体人会这么如痴入魔。

“目前进度怎么样？”他问道。

李由皱了皱眉，“还不是很顺利，当初我们学的是采用248nm的krf准分子激光作为光源的第三代光刻机和采用了193nm的arf准分子激光，的第四代光刻机。

所以光源上的理论还有所生疏，而且德国那边的仪器，他们给的不是最先进的那一款，还有储存环，我们国内的不是很。”

顾青表示理解，叹了口气道：“这很正常，要达到国际先进水平不容易，但是我们还有一个研究部门正在进行改造，不论是仪器和储存环，这个月底就会给你们。

asml1公司采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长纳米的euv光源，功率约250瓦。

随着芯片工艺节点的不断缩小，对euv光源功率的要求也将不断提升，估计会达到千瓦量级。

而基于ss1mb的euv光源有望实现更大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，所以咱们这个ss1mb光源的前景是可以确定的。

你们别慌，前期的理论功课做好了，下个月的落地实验才会走得稳。”

李由点头笑了笑，“我知道，我们这边的研发人员每天都在生产工作完成后加班学习，咱们自己人干活，不需要看外人的表情，所以大家的动力都很足。”

顾青本来还想再聊一会儿，但是董琦的电话突然打了过来。