第一百五十五章光源与波澜

半导体巨头应用材料总公司副总裁，世界半导体刻蚀技术的主要推动者是大夏人。

开创性提出并推进浸润式微影系统，将芯片光刻带入浸没式时代的大佬也是大夏人，要知道现在所有的高端光刻机都是以浸没式光学技术为基础制造的。

而在顾青眼中，李由等人就是这种未来要上半导体教材的人。

而此刻，半导体部门的人都在攻克一个问题，光源。

光刻机光刻机，也可以理解是用光雕刻芯片的机器。

极紫外光源，也就是euv光刻机所用的光源。

可以生产7nm以下芯片的制造工艺，但这个光源已经被荷兰的asml公司所垄断。

而顾青最近一直在教导半导体部门研发的光源叫做稳态微聚束，ss1mb光源。

这个光源的波长可以从太赫兹覆盖到极紫外波段，可以成为euv光刻机新的光源技术。

目前这个项目国内外都有概念，也有人在动工开干，但从流程走的话，再幸运也需要三四年才能有实验室产品。

那就是下一个十年的了，对比现在18年，有些远了。

当然此时的友商，夏芯在今年做了一件大事。